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產(chǎn)品|公司|采購|招標(biāo)

廣電計(jì)量檢測集團(tuán)股份有限公司

化學(xué)氣相沉積(PECVD)

參考價(jià)10-280/臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱北京中科復(fù)華科技有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號PECVD-601/
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2025/5/16 16:10:34
  • 訪問次數(shù)709
產(chǎn)品標(biāo)簽:

PECVD氣相沉積鍍膜

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北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器,擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。未來公司將不斷和引進(jìn)在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品,同時(shí)也與全國各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。




電子束曝光系統(tǒng),刻蝕設(shè)備,鍍膜設(shè)備,光刻機(jī),半導(dǎo)體工藝設(shè)備
產(chǎn)地 國產(chǎn)
是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)沉積的半導(dǎo)體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法
化學(xué)氣相沉積(PECVD) 產(chǎn)品信息

應(yīng)用方向:科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢: 高性能薄膜制備

產(chǎn)品配置:

樣片數(shù)量及尺寸:1片Ф6英寸

沉積材料:包括并不限于硅基(Si)薄膜、碳基(C)薄膜、硅鍺合金(SiGe)、鎢硅合金(WSi2)、W、SiC。

沉積腔體:高真空系統(tǒng)

沉積不均勻性:±3%-±6%

沉積速率:20-600nm/min(視具體材料與工藝)

工作臺(tái):可升降,高度可調(diào)

加熱:常規(guī)加熱,可選高溫加熱

電源配置:射頻;直流偏壓

氣路數(shù)量與種類:標(biāo)配4路氣路 或 用戶選配

光學(xué)性能監(jiān)測:可選配橢偏儀在線監(jiān)測系統(tǒng)

漸變折射率薄膜制備:可選配快速流量變化與控制系統(tǒng)

操作模式:全自動(dòng)+半自動(dòng)控制

類似產(chǎn)品:帶預(yù)真空室(PECVD-8100)





關(guān)鍵詞:橢偏儀 工作臺(tái)
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