CP-PVD系列磁控濺射鍍膜設(shè)備采用的in-line產(chǎn)線結(jié)構(gòu)，Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術(shù)，并配以全自動控制系統(tǒng)、的真空系統(tǒng)，可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質(zhì)薄膜、金屬或合金薄膜，并可連續(xù)濺鍍多種不同材質(zhì)的薄膜構(gòu)成復(fù)合多膜層結(jié)構(gòu)，適合大規(guī)模光學(xué)、電學(xué)薄膜的生產(chǎn)，做到一機(jī)多用，。
CP-PVD系列磁控濺射具有高能效、高可靠性、低成本的優(yōu)勢。
本產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。
磁控鍍膜機(jī)可用于光學(xué)、電子顯示、手機(jī)等行業(yè)，采用我公司自主研發(fā)的磁控旋轉(zhuǎn)陰極鍍膜技術(shù)，可鍍制各種金屬膜及介質(zhì)膜，根據(jù)不同客戶需求，配置直流、中頻、射頻濺射單元，以及離子清洗功能，可實現(xiàn)反應(yīng)濺射鍍制各種光學(xué)膜，根據(jù)用戶產(chǎn)品工藝采用柔性編程，實現(xiàn)“一鍵”完成從關(guān)門到開門全過程的多層膜鍍制，單機(jī)實現(xiàn)多層膜的規(guī)?；咝噬a(chǎn)。
