防腐型氣相沉積系統(tǒng) 全氟癸基硅烷涂膠機(jī)工藝的主要作用
納米壓印是一種不同于傳統(tǒng)光刻技術(shù)的全新圖形轉(zhuǎn)移技術(shù),其能夠把納米圖形從模板“復(fù)制”到基片上,具有產(chǎn)量高、成本低和工藝簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn)。為實(shí)現(xiàn)一些特殊形狀的壓印,需要提供一種具有納米結(jié)構(gòu)的彈性模板。 為了制作納米壓印彈性模板,一般是提供一具有納米壓印結(jié)構(gòu)的母板,繼而將納米壓印膠均勻地涂覆到沉積了抗粘層的母板上,然后再在納米壓印膠層遠(yuǎn)離母板的一側(cè)涂覆形成有一彈性支撐層,在彈性支撐層固化后,將彈性支撐層與母板分開。然而超疏水層(抗粘層)的制備就是需要將脫模劑(全氟癸基三氯硅烷、全氟辛基三氯硅烷)均勻沉積在母板上。
防腐型氣相沉積系統(tǒng) 全氟癸基硅烷涂膠機(jī)技術(shù)性能
內(nèi)尺寸:300×300×300、450×450×450,可定制
外箱材質(zhì): 優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑,
內(nèi)部材質(zhì):內(nèi)腔采用高性能防腐型不銹鋼
原理:疏水劑氣相沉積
溫度范圍 :30-200℃
真空度: ≤500pa
接觸角:100±5度
電源: AC 220V±10% / 50HZ
總功率:2.8KW
操作界面:真彩觸摸屏人機(jī)界面
真空泵: 抗腐蝕型無(wú)油泵?
保護(hù)裝置:超溫保護(hù),漏電保護(hù),過(guò)熱保護(hù)等
防腐型氣相沉積系統(tǒng)在半導(dǎo)體,納米壓印、光電、電子行業(yè)硅片、玻璃、石英硬模板等材料,如制備各種微納電子器件、光學(xué)器件、光電器件、存儲(chǔ)器、微流體通道、生物芯片等微納結(jié)構(gòu)制備超疏水層方面的應(yīng)用。





