一、核心性能與技術(shù)特點(diǎn)
- 常壓干式環(huán)保工藝設(shè)備無(wú)需真空機(jī)構(gòu),在常壓環(huán)境下即可完成處理,全程為干式工藝,不使用危險(xiǎn)有機(jī)溶劑,減少污染物排放,適配綠色生產(chǎn)需求,操作簡(jiǎn)單便捷。
- 粉體均勻處理技術(shù)采用滾筒式容器配合回轉(zhuǎn)搖動(dòng)攪拌機(jī)構(gòu),粉體在容器內(nèi)充分翻動(dòng),同時(shí)配合 GLOVE 等離子體放電,確保粉體表面得到均勻的等離子體處理,避免局部改性不均。
- 冷卻機(jī)構(gòu)適配低熔點(diǎn)粉體內(nèi)置冷卻系統(tǒng),可有效控制處理過(guò)程中的溫度,防止粉體受熱粘連或變質(zhì),支持 PP(聚丙烯)等低熔點(diǎn)粉體的表面改性處理,拓展設(shè)備適用范圍。
- 靈活的工藝定制能力支持多種等離子處理氣體的選擇,可在粉體表面接枝不同官能基,實(shí)現(xiàn)親水化、疏水化等不同改性效果;同時(shí)容器的回轉(zhuǎn)搖動(dòng)速度可獨(dú)立調(diào)節(jié),適配不同粉體的處理需求。
二、規(guī)格與處理能力
處理方式:常壓等離子體滾筒式處理
單次處理量:以 PP 粉為例,單次可處理 2 升 / 批次
控制方式:氣體種類選擇、容器回轉(zhuǎn)速度獨(dú)立可調(diào)
冷卻功能:搭載冷卻機(jī)構(gòu),支持低熔點(diǎn)粉體處理
工藝特點(diǎn):干式工藝,無(wú)溶劑污染,無(wú)需真空環(huán)境
三、常壓等離子粉體表面改性裝置 典型應(yīng)用場(chǎng)景
高分子粉體改性:聚合物粉體表面的親水化 / 疏水化處理,改善粉體表面活性;
無(wú)機(jī) / 陶瓷粉體處理:提升粉體在樹(shù)脂、溶劑中的分散性與相容性;
官能基接枝改性:通過(guò)不同等離子氣體,在粉體表面接枝特定官能基,優(yōu)化材料性能;
行業(yè)應(yīng)用:醫(yī)藥、化妝品、化工材料、復(fù)合材料等領(lǐng)域的粉體預(yù)處理與性能優(yōu)化。




